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德Alpha Plasma 微波等離子去膠機
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德Alpha Plasma 微波等離子去膠機
。去膠快速徹底
。無化學殘留物
。無需干燥處理
。對樣品無損傷
。操作簡單安全
產品規格及參數:
產品用途
■ 高劑量離子注入后光刻膠的去除
■ 濕法腐蝕 / 干法刻蝕前后光刻膠的去除
■ SU-8 膠及其他環氧基光刻膠的去除
■ MEMS 工藝中犧牲層的去除
■ 材料表面活化改性
■ 封裝鍵合工藝中等離子清洗
SU-8 膠的去除
SU-8 膠已成為微機電系統(MEMS)制造領域中首選的光刻膠。然而 SU-8 膠最致命的缺點就是去膠困難,為了解決這個難題,德國 Alpha Plasma 推出專業去除 SU-8 膠的微波等離子去膠機。該設備采用氟基氣體與 SU-8 膠的化學反應,實現快速去除 SU-8 膠的功能。另外設備還可集成溫控系統,去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結構的完整性,最終實現高質量 MEMS 器件的制備。
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