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SSDR 150 微波等離子化學氣相沉積機
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法國Plassys微波等離子體化學氣相沉積系統 SSDR 150
SSDR150 微波等離子體化學氣相沉積系統專門用于合成 CVD 金剛石薄膜,能夠制備高純單晶(需高純氣源)、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學級窗口。SSDR150 不斷優化的微波及等離子體設計,是一款可靠的、穩定的、長時間運行的金剛石薄膜生長系統,能夠完美地適用于高??蒲泻推髽I生產。
SSDR150 系統特點
。 鋁合金腔體+內置石英管反應室,支持長時間高功率下工作
。工藝氣壓可達 350 mbar 或更高,可以高速率生長單晶
。微波源為 2.45GHz、最大功率 6 kW,高耦合效率
。標準配置 4 條氣路,最多可增加至 7 條氣路(摻雜氣路)
。2 英寸水冷樣品臺,高度電動可調、精度優于 10μm (可選)
。雙色紅外高溫計測試樣品表面溫度,范圍 475-1475 °C
。愛德華茲分子泵+ 干泵,最佳真空度≤ 3×10-7 mbar
。高水平金剛石生長工藝培訓及演示(內容根據應用而定)
。全自動控制、半自動和手動可用,圖形化操作界面(GUI)
。多級用戶設置和管理、遠程診斷和維護、數據導出接口
。多用途:高純度單晶、厚單晶、大單晶、摻雜、光學窗口
。設備維護少、安全、可靠、穩定、性價比高
應用領域
。切削刀具、耐磨涂層、熱沉材料、SAW
。光學窗口、激光晶體、電化學電極、CNT
。生物傳感器、微機電系統、光電探測器
。商用寶石、低壓高溫退火處理、量子計算
SSDR150 性能表現
多晶金剛石:
• 液氮溫度下 PL 檢測 無明顯氮
• 生長速率: 高達 10 μm/h, 取決于生長工藝
• 生長速率: 高達 20 μm/h, 取決于生長工藝條件
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