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    等離子清洗機 / 去膠機 > 德PVA TePla等離子清洗機
     
    德國 PVA TePla等離子清洗系統80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus
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    德國 PVA TePla等離子清洗系統80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus,有別于傳統的射頻等離子(物理)清洗方式,微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位,實現清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋,并且不會改變表面的粗糙度。

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    德國 PVA TePla等離子清洗系統80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus

    PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司,在等離子體、真空系統、晶體生長等領域占據世界領先地位;PVA TePla是PVA的一個部門,專業制造等離子清洗機,廣泛應用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產等離子體處理設備的專家,PVA TePla可為半導體行業提供等離子體清洗設備和服務

     

    獨有的微波等離子(化學)清洗方式

     

    有別于傳統的射頻等離子(物理)清洗方式,微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位,實現清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋,并且不會改變表面的粗糙度。隨著封裝技術的進步,在倒裝和疊晶片等封裝中,射頻等離子清洗并不能達到工藝要求,微波等離子清洗的特點和優勢使得更多用戶的選擇和使用PVA TePla。

    等離子清洗在倒裝芯片封裝技術的已成為必須的過程, 提高產量。先進的倒裝芯片設備在業界獲得顯著性,在穿透分鐘的差距的模具下,微波等離子體過程是無與倫比的。根據不同模具的體積,所有表面均可被完全激活和控調。PVA TePla 的微波等離子體一向可執行,無空隙的倒裝芯片底部填充膠,最佳的附著力和顯著增強的吸濕排汗速度。適合程度的應用遠遠超出了芯片尺寸20x20mm和50μm以下的bumps。

     

    PVA TePla等離子清洗系統在半導體的應用:

     

    Ø 射頻等離子在IC封裝的應用

     

    Ø 微波等離子在倒裝芯片(Flip chip)工藝的應用


    80 Plus HS微波等離子系統

    是PVA TePla在微晶片封裝方面提供的半導體業改革。

    80 Plus High Speed (HS)正在申請專利,對比與其他框架和基板片式處理等離子系統,該設備是世界上唯一一個單腔體支持片尺寸轉換,運輸和處理并提升了3倍UPH的設備。該系統針對大批量的芯片制造商在引線鍵合前、塑封前、倒裝片底部填充前等應用中提升收率和可靠性。

    產量方面的業界新標準:
    • 高效率 
    • 支持 100x300mm 框架
    • 最高UPH達到900 strips/Hr

     

    PVA TePla 其它等離子清洗系統產品: