德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

詳細介紹
德國 IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術（MPCVD), 通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。

MPCVD是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司專利的 CYRANNUS® 等離子技術解決了傳統等離子技術的局限，可以在10mbar到室壓范圍內激發高穩定度的等離子團，最大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態的變化，從而確保單晶生長的持續性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

化學機理概要：

碳氫化合物：提供沉積材料

氫氣：生成sp3鍵

氧：對石墨相/sp2鍵侵蝕

惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。

適用合成材料：

大尺寸寶石級單晶鉆石

高取向度金剛石晶體

納米結晶金剛石

碳納米管/類金剛石碳（DLC）

多種等離子發生器選擇：
 
頻率：2.45GHz, 915MHz:
 
功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW
 
等離子團直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm
 
工作其他范圍：0-1000mBar 
 
                    
 

其他應用：

MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術領域的積累，可以為用戶提供高度定制的設備，滿足用戶不同的應用需要。