產品名稱：SWC-3000兆聲晶圓清洗機

 

產品特點：SWC-3000兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及Z先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了專利的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-3000兆聲晶圓清洗機的詳細資料：

應用：

· 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

· Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗

· CMP處理后的晶圓片清洗

· 晶圓框架上的切粒芯片清洗

· 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

· 帶保護膜的分劃版清洗

· 掩模版空白部位或接觸部位清洗

· X射線及極紫外掩模版清洗

· 光學鏡頭清洗

· ITO涂覆的顯示面板清洗

· 兆聲輔助的剝離工藝

特點：

· 臺式系統

· 無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉甩干

· 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片

· 微處理機自動控制

· IR紅外燈

選配項：

· 掩模版或晶圓片夾具

· PVA軟毛刷清洗

· 化學試劑清洗(CDU)

· 氮氣離子發生器